與荷蘭光刻機巨頭阿斯麥集團(ASML)簽訂一份高達12億美元的訂單。
阿斯麥集團緊隨其后“官宣”，證實中芯國際采購的正是深紫外線光刻機(即DUV光刻機)。
而在3月1日，美國國家安全人工智能委員還煞費苦心地寫了一份報告，讓美國政府“勸說”荷蘭和日本，不要為中國發(fā)放芯片制造設備的許可證。
這才過了兩天，中芯國際就狠狠打了美國的臉。
原本中芯國際與阿斯麥簽署的購買協(xié)議已于2020年底到期，但是兩家公司經(jīng)過協(xié)調(diào)之后達成共識，決定延長此份協(xié)議的期限至今年年底。
這意味著，在美國多方位遏制打壓中國芯片制造的情況下，中國也算是踏出了突破性的一步。
中芯國際于去年開始被美國“制裁”，美國以所謂的“與軍方有聯(lián)系”為由，要求美國半導體制造企業(yè)，不得向中芯國際出口產(chǎn)品和關鍵性技術。
如果中芯國際想與美國供應商合作，必須申請相應的許可證。美國不僅嚴格管控本國的企業(yè)，還把手伸向了其他國家的企業(yè)。
荷蘭的阿斯麥集團作為半導體制造業(yè)的“領頭老大”，自然成為了美國的首要目標。
在芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈中，光刻機是必不可少的精密設備。但因為其復雜的工藝，全世界只有幾個國家的企業(yè)能生產(chǎn)頂級的光刻機。
荷蘭的阿斯麥企業(yè)在這個領域是實打實的佼佼者。如果說深紫外線(DUV)光刻機還有幾家企業(yè)能造，而比DUV光刻機更精密的極紫外線(EUV)光刻機，全球只有阿斯麥能造。
美國明面上沒有表示，其實暗地里多次向阿斯麥集團施壓，阻止阿斯麥向中芯國際出口關鍵的芯片制造技術，包括設備。
雖然這份協(xié)議的延長能緩解中芯國際的芯片生產(chǎn)壓力，但中芯國際對產(chǎn)品和技術的進一步發(fā)展仍有很大的阻礙，因為此次協(xié)議不包括更先進的EUV光刻機。
據(jù)阿斯麥有關人士透露，向中國出口DUV光刻機沒有問題，但EUV光刻機的出口仍需要荷蘭政府的批準。
對于外國的技術壟斷，中國也在不斷地尋求技術突破。
近日，清華大學工程物理系教授唐傳祥研究團隊在《自然》雜志上發(fā)表了一篇論文，報告中顯示，他們完成了一種新型光源的原理驗證實驗，這種光源名為“穩(wěn)態(tài)微聚束”(SSMB)，與極紫外線(EUV)有著密切的關系。
簡單來說，這個原理的發(fā)現(xiàn)與驗證，將有望為制造EUV光刻機提供新的技術路線與思路。
雖然這距離中國自主研發(fā)制造EUV光刻機還有非常遙遠的距離，但無疑是一個巨大的希望。這不僅將能實現(xiàn)中國自身的技術發(fā)展，還能在面對美國頻繁實施技術封鎖與打壓之時，更有底氣。
標簽： 光刻機
